14 มิ.ย. เวลา 12:00 • วิทยาศาสตร์ & เทคโนโลยี

จาก ASML สู่ XFEL การผสานฟิสิกส์อนุภาคเข้ากับอนาคตของเซมิคอนดักเตอร์

เชื่อกันมั๊ยครับว่าอนาคตของเทคโนโลยีทั่วโลกในขณะนี้เรียกได้ว่ากำลังแขวนอยู่บนเส้นด้าย
เส้นด้ายที่ว่านี้คือเครื่องจักรเพียงชนิดเดียวที่แปลกประหลาดที่สุดเท่าที่มนุษย์เคยสร้างมา
มันคือเครื่องจักรที่ต้องยิงเลเซอร์ใส่หยดดีบุกหลอมเหลวถึง 50,000 ครั้งในหนึ่งวินาที
ทั้งหมดนี้ก็เพียงเพื่อสร้างประกายแสงที่เรามองไม่เห็นด้วยตาเปล่าในชั่วพริบตาเดียว…
ตลอดหลายปีที่ผ่านมาเทคโนโลยีที่ชื่อว่า EUV lithography คือจุดสูงสุดของวงการเซมิคอนดักเตอร์
แต่วันนี้เทคโนโลยีที่ว่ากำลังพุ่งชนกำแพงขนาดใหญ่ที่สร้างจากกฎทางฟิสิกส์
เพื่อทะลวงกำแพงนี้มนุษยชาติกำลังพยายามสร้างเครื่องมือผลิตชิปที่แปลกประหลาดที่สุดเท่าที่เคยมีมา
วิศวกรหลายคนไม่เคยคิดมาก่อนว่าอนาคตของคอมพิวเตอร์จะขยับเข้าใกล้ฟิสิกส์อนุภาคมากขนาดนี้
1
มันมีสัจธรรมหนึ่งที่ย้อนแย้งอย่างน่าประหลาดใจในอุตสาหกรรมนี้…
ในขณะที่ชิปคอมพิวเตอร์มีขนาดเล็กลงเรื่อยๆ เครื่องจักรที่ใช้สร้างมันกลับมีขนาดใหญ่โตขึ้น
การแข่งขันในโลกของ AI ไม่ใช่แค่เรื่องของการแย่งชิงชิปประมวลผลกราฟิกหรือ GPUs อย่างที่หลายคนคิด
แต่คอขวดที่แท้จริงของการแข่งขันนี้คือเรื่องของ “แสง”
ย้อนกลับไปในปี 1965 Gordon Moore ผู้ร่วมก่อตั้งบริษัท Intel เคยตั้งข้อสังเกตที่สำคัญมาก
ข้อสังเกตนี้ต่อมาถูกเรียกว่า Moore’s Law ซึ่งระบุว่าจำนวนทรานซิสเตอร์บนแผ่นวงจรจะเพิ่มขึ้นเป็นสองเท่าในทุกๆ สองปี
กฎของเขากลายเป็นสิ่งที่กำหนดทิศทางอุตสาหกรรมเทคโนโลยีมานานกว่าครึ่งศตวรรษ
แต่การจะทำให้ทรานซิสเตอร์เล็กลงเรื่อยๆ เพื่อยัดลงไปในพื้นที่เท่าเดิมต้องพึ่งพากระบวนการ Lithography…
อธิบายง่ายๆ กระบวนการนี้ก็เหมือนกับการถ่ายภาพเพื่อสร้างชิปคอมพิวเตอร์
เริ่มต้นจากการสร้างลำแสงที่มีความแม่นยำสูงเดินทางผ่านเขาวงกตกระจกเงา
สะท้อนผ่านหน้ากากที่มีแบบแปลนการออกแบบชิปซ่อนอยู่
จนในที่สุดแสงนั้นจะเดินทางไปตกกระทบลงบนแผ่นซิลิกอนที่อยู่ด้านล่างสุด
แผ่นซิลิกอนนี้จะถูกเคลือบด้วยสารเคมีชนิดพิเศษที่ไวต่อแสงซึ่งเรียกว่า Photoresist
เมื่ออนุภาคของแสงเดินทางมากระทบพื้นผิวมันจะทำให้เกิดปฏิกิริยาทางเคมี
สถานะของวัสดุจะเปลี่ยนแปลงไปในตำแหน่งที่แม่นยำสุดๆ
ในเสี้ยววินาทีนั้นดีไซน์ระดับนาโนก็จะถูกประทับลงบนแผ่นซิลิกอนทันที…
หลังจากนั้นจะเป็นหน้าที่ของกระบวนการผลิตส่วนอื่นๆ ทั้งการกัดเซาะและการเคลือบพื้นผิว
ทำซ้ำแล้วซ้ำเล่าจนกว่าทรานซิสเตอร์หลายพันล้านตัวจะปรากฏตัวขึ้นมา
แต่ปัญหาที่ทำให้กระบวนการทั้งหมดนี้ต้องพบกับทางตันคือความยาวคลื่นของแสง
ความยาวคลื่นคือตัวแปรสำคัญที่กำหนดว่าลวดลายบนชิปจะเล็กที่สุดได้แค่ไหน
เมื่อพยายามสร้างชิปที่เล็กลงเรื่อยๆ เราก็มาถึงจุดที่ขนาดของแสงดันใหญ่กว่าลวดลายที่พยายามจะพิมพ์…
ก่อนหน้านี้อุตสาหกรรมผู้ผลิตชิปใช้แสงที่เรียกว่า Deep ultraviolet หรือ DUV ซึ่งมีความยาวคลื่น 193 นาโนเมตร
แต่พวกเขาก็ยังฝืนใช้แสงขนาดนี้ไปพิมพ์ลวดลายที่มีขนาดเล็กกว่าตัวมันเอง
วิศวกรจึงต้องคิดค้นเทคนิคที่เรียกว่า Multi-Patterning ขึ้นมาแก้ปัญหา
มันคือการนำลวดลายที่ซับซ้อนมาซอยย่อยให้กลายเป็นลวดลายที่เรียบง่ายขึ้นหลายๆ ลาย
พิมพ์ส่วนแรกเสร็จแล้วนำไปกัดเซาะ จากนั้นค่อยฉายแสงพิมพ์ส่วนที่สองแล้วกัดเซาะอีกรอบ
เทคนิคนี้ทำให้สร้างลวดลายที่เล็กกว่าขีดจำกัดทางฟิสิกส์ของแสงต้นฉบับได้
แต่มันก็ทำให้กระบวนการผลิตชิปกลายสภาพเป็นฝันร้ายทางวิศวกรรมเช่นกัน…
ทุกลวดลายที่พิมพ์เพิ่มหมายถึงการใช้หน้ากากต้นแบบเพิ่มขึ้นและต้องจัดตำแหน่งให้แม่นยำมากขึ้น
โอกาสที่ความผิดพลาดจะเกิดขึ้นจนทำลายแผ่นซิลิกอนมูลค่ามหาศาลก็สูงขึ้นตามไปด้วย
ในที่สุดวิธีแก้ปัญหาเฉพาะหน้านี้ก็กลายเป็นเรื่องยากยิ่งกว่าปัญหาตั้งต้น
อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์จึงตัดสินใจกระโดดข้ามไปหาแสงประเภทใหม่ที่เรียกว่า Extreme ultraviolet หรือ EUV
แสงชนิดนี้มีความยาวคลื่นเพียง 13.5 นาโนเมตร เล็กพอจะพิมพ์ลวดลายที่มีความกว้างแค่ไม่กี่นาโนเมตรได้
นี่คือหนึ่งในการก้าวกระโดดทางเทคโนโลยีที่ยิ่งใหญ่ที่สุดในประวัติศาสตร์
แต่ปัญหาคือแค่แสงเจเนอเรชันแรกนี้ก็ผลักดันมนุษยชาติไปจนถึงขั้นสุดของความเป็นไปได้ทางฟิสิกส์แล้ว…
ย้อนกลับไปในอดีตเส้นทางของ ASML ไม่ได้โรยด้วยกลีบกุหลาบ
ในช่วงเริ่มต้นพวกเขาเกือบจะต้องล้มละลายและดิ้นรนอย่างหนักเพื่อเอาชีวิตรอด
กว่าจะสามารถพัฒนาระบบที่สมบูรณ์แบบเพื่อมาใช้กับเครื่องจักรนี้ได้สำเร็จ
ทั้งหมดคือการเดิมพันครั้งประวัติศาสตร์ของบริษัทที่เปลี่ยนโลกไปตลอดกาล
ลองจินตนาการถึงสิ่งที่เกิดขึ้นภายในเครื่องจักรผลิตชิปที่ซับซ้อนที่สุดในโลก
หยดดีบุกหลอมเหลวขนาดจิ๋วจะถูกยิงผ่านห้องที่เป็นสุญญากาศ
เลเซอร์แรกจะพุ่งชนหยดดีบุกเพื่อปรับรูปทรงให้พร้อมรับแรงกระแทก
จากนั้นเลเซอร์ขนาดยักษ์จะพุ่งเข้าชนด้วยพลังงานมหาศาลทำให้ดีบุกระเบิดกลายเป็นพลาสมาในเสี้ยวพริบตา…
การระเบิดนั้นจะปลดปล่อยแสงความยาวคลื่น 13.5 นาโนเมตรที่หาได้ยากยิ่งออกมา
นั่นคือจุดกำเนิดของไมโครชิปยุคใหม่ที่เราใช้กันอยู่ในปัจจุบัน
แต่สิ่งที่น่าเหลือเชื่อคือกระบวนการที่ซับซ้อนนี้กลับสร้างแสงที่นำไปใช้งานจริงได้น้อยมาก
มีพลังงานเริ่มต้นเพียงเศษเสี้ยวเดียวเท่านั้นที่เดินทางไปถึงแผ่นซิลิกอน
การควบคุมแสงชนิดนี้ยากเย็นแสนเข็ญเพราะแม้อากาศหรือกระจกธรรมดาก็สามารถดูดซับมันได้ทันที
เครื่องจักรทั้งหมดจึงต้องทำงานในสภาพแวดล้อมที่เป็นสุญญากาศโดยสมบูรณ์
ปัญหาที่แท้จริงเริ่มปรากฏเมื่อเราพยายามสร้างชิปที่มีขนาด 3 นาโนเมตรหรือเล็กกว่านั้น…
อุตสาหกรรมเรียกปัญหานี้ว่า Shot noise ซึ่งเป็นความท้าทายที่น่าปวดหัวที่สุด
โรงงานผลิตชิปจะเริ่มเจอกับขีดจำกัดทางสถิติเมื่อชิปมีขนาดเล็กถึงระดับนี้
จำนวนอนุภาคของแสงที่วิ่งไปกระทบแผ่นซิลิกอนมีปริมาณไม่มากพอที่จะพิมพ์ลวดลายให้สมบูรณ์
ฟิสิกส์เริ่มกลายเป็นเรื่องของการสุ่มและความน่าจะเป็น
ลองนึกภาพการพยายามพ่นสีสเปรย์ให้เป็นเส้นตรงที่เล็กระดับนาโนแต่เม็ดสีบางส่วนกลับปลิวหายไป
ในสเกลปกติเรื่องนี้อาจไม่สำคัญแต่ที่ระดับ 3 นาโนเมตรมันคือความหายนะ
ถึงจุดหนึ่งวิศวกรต้องเริ่มต่อสู้กับกฎแห่งความน่าจะเป็นเสียเอง…
ปัจจุบันอุตสาหกรรมกำลังเริ่มพิจารณาแนวทางใหม่ที่ต่างออกไปอย่างสิ้นเชิง
แทนที่จะยิงเลเซอร์ใส่หยดดีบุกให้ระเบิด พวกเขาอยากสร้างแสงโดยใช้อิเล็กตรอน
เป็นอิเล็กตรอนที่วิ่งด้วยความเร็วเกือบเท่าความเร็วแสงภายในเครื่องเร่งอนุภาค
บริษัทอเมริกันชื่อ xLight เป็นหนึ่งในผู้ที่กำลังมุ่งหน้าไปในเส้นทางนี้
ไอเดียของพวกเขาคือการสร้างสิ่งที่เรียกว่า Free electron laser หรือ FEL
เดิมทีเครื่องมือนี้ไม่ได้ถูกคิดค้นมาเพื่อผลิตชิปแต่ถูกใช้เป็นเครื่องมือทางวิทยาศาสตร์
มันเปรียบเสมือนกล้องวิดีโอสโลว์โมชันที่ทรงพลังที่สุดในโลกสำหรับส่องดูอะตอมและโมเลกุล…
แต่วันนี้อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์อาจต้องยืมเครื่องมือนี้มาสร้างอุปกรณ์ที่เล็กที่สุดเท่าที่มนุษย์เคยประดิษฐ์ขึ้น
ความน่าสนใจคือเครื่องจักรนี้ทำงานไม่เหมือนเลเซอร์ทั่วไป
เลเซอร์ดั้งเดิมใช้อะตอมในการทำงานแต่เครื่องจักรนี้ข้ามขั้นตอนของอะตอมไปเลย
มันยิงลำแสงอิเล็กตรอนผ่านโครงสร้างแม่เหล็กขนาดยาวบังคับให้อิเล็กตรอนวิ่งซิกแซ็กสลับไปมาอย่างรวดเร็ว
1
เมื่ออนุภาคถูกบังคับให้เปลี่ยนทิศทางกะทันหันด้วยความเร็วมหาศาลพวกมันจะเปล่งแสงออกมา
1
หากปรับแต่งลำแสงและโครงสร้างแม่เหล็กให้พอดีเราจะสามารถผลิตแสงสำหรับสร้างชิปได้โดยตรง
นี่คือวินาทีที่วงการเซมิคอนดักเตอร์กำลังหลอมรวมเข้ากับวงการฟิสิกส์อนุภาค…
เหตุผลที่อุตสาหกรรมหันมาสนใจเทคโนโลยีที่ดูหลุดโลกขนาดนี้มีที่มาที่ไป
เพราะระบบเดิมเริ่มขยายขีดความสามารถได้ยากขึ้นและมีต้นทุนที่บานปลาย
การจะเพิ่มประสิทธิภาพให้พิมพ์ชิปได้เล็กลงไปอีกต้องแลกมาด้วยพลังงานมหาศาล
ในขณะที่ความต้องการใช้งาน AI ทั่วโลกกำลังระเบิดขึ้นอย่างต่อเนื่อง
ศูนย์ข้อมูลเติบโตอย่างรวดเร็วและต้องการชิปขั้นสูงจำนวนมหาศาล
สมการทางเศรษฐศาสตร์คือยิ่งพิมพ์แผ่นซิลิกอนได้เร็วเท่าไรก็ยิ่งผลิตชิปได้มากขึ้นเท่านั้น
เทคโนโลยีใหม่นี้สามารถสร้างแสงได้สว่างกว่าเครื่องจักรทั่วไปหลายเท่าตัว…
ในโลกของการสร้างชิป แสงที่สว่างกว่าหมายถึงความเร็วในการพิมพ์ที่สูงกว่า
มีความเป็นไปได้ว่าอนาคตเราอาจมีแหล่งกำเนิดแสงเพียงเครื่องเดียวตั้งอยู่ตรงกลาง
แล้วต่อสายส่งแสงนี้ไปหล่อเลี้ยงเครื่องสแกนเนอร์หลายสิบเครื่องพร้อมกัน
นอกจากนี้เทคโนโลยีใหม่ยังสามารถปรับจูนความยาวคลื่นให้ลดลงไปต่ำกว่า 1 นาโนเมตรได้
จนมันสามารถก้าวเข้าสู่อาณาจักรรังสีเอ็กซ์ได้อย่างเหลือเชื่อ
นั่นหมายความว่าเราจะพิมพ์ทรานซิสเตอร์ที่เล็กจิ๋วจนระบบปัจจุบันไม่มีทางทำได้
ประเทศผู้นำด้านเทคโนโลยีกำลังเดินหน้าพัฒนาเรื่องนี้ไปในทิศทางที่ต่างกันอย่างสุดขั้ว…
ในเยอรมนีมีศูนย์วิจัยเครื่องเร่งอนุภาคชื่อ European XFEL ซ่อนตัวอยู่ใต้ดิน
เครื่องเร่งอนุภาคนี้มีความยาวกว่า 3 กิโลเมตรและใช้ระบบหล่อเย็นที่อุณหภูมิเข้าใกล้ศูนย์สัมบูรณ์
หากต้องสร้างโรงงานผลิตชิปด้วยเทคโนโลยีนี้หน้าตามันอาจคล้ายกับศูนย์วิจัยมากกว่าโรงงานอุตสาหกรรม
ทางฝั่งอเมริกามีแนวคิดที่จะนำเทคโนโลยีมาย่อส่วนให้มีความกะทัดรัดขึ้น
เพื่อให้สามารถนำไปวางไว้ข้างโรงงานผลิตชิปที่มีอยู่เดิมได้
ส่วนญี่ปุ่นกลับมองต่างออกไปด้วยการมุ่งเน้นไปที่การประหยัดพลังงานเป็นหลัก…
สถาบัน KEK ของญี่ปุ่นคิดวิธีนำอิเล็กตรอนที่ใช้แล้ววนกลับเข้ามาในระบบเพื่อคืนพลังงาน
ระบบนี้เรียกว่า Energy recovery linac ซึ่งเป็นแนวคิดที่ชาญฉลาดมาก
มันเปรียบเสมือนระบบเบรกที่ปั่นไฟกลับเข้าแบตเตอรี่ในรถยนต์ไฟฟ้า
การทำแบบนี้อาจช่วยสร้างแสงที่มีพลังงานสูงได้โดยที่ค่าไฟไม่พุ่งทะลุเพดาน
แต่ความเคลื่อนไหวที่น่าจับตามองที่สุดกำลังเกิดขึ้นที่ประเทศจีน
สำหรับจีนเรื่องนี้ไม่ใช่แค่การอัปเกรดเทคโนโลยีแต่มันคือความเป็นความตายทางยุทธศาสตร์…
การถูกจำกัดการเข้าถึงเทคโนโลยีขั้นสูงทำให้การพัฒนาชิป AI ของจีนต้องสะดุด
จีนจึงไม่มีทางเลือกอื่นนอกจากต้องสร้างทางลัดของตัวเองขึ้นมา
โครงการสำคัญของพวกเขาคือระบบ SSMB ที่คิดค้นโดยมหาวิทยาลัยชั้นนำ
พวกเขาออกแบบวงแหวนกักเก็บอิเล็กตรอนขนาดมหึมาที่มีเส้นรอบวงยาวถึง 150 เมตร
เป้าหมายคือการสร้างโครงสร้างพื้นฐานแบบรวมศูนย์ที่อาจป้อนแสงให้โรงงานได้ทั้งนิคมอุตสาหกรรม
ถ้าทำสำเร็จมันจะไม่ใช่แค่การเอาชนะข้อจำกัดแต่คือการสร้างระบบอุตสาหกรรมรูปแบบใหม่
ระบบที่จะถูกสร้างขึ้นมาเพื่อใช้ควบคุมแสงโดยเฉพาะ…
แม้โลกจะตื่นเต้นกับเทคโนโลยีใหม่แค่ไหนแต่ความจริงคือเทคโนโลยีเดิมก็ยังทำงานได้ดี
ความอยู่รอดของโรงงานเซมิคอนดักเตอร์ไม่ได้วัดกันที่ความสวยงามของทฤษฎีทางฟิสิกส์
แต่วัดกันที่ความเสถียรของเครื่องจักรที่สามารถเดินเครื่องได้ต่อเนื่องโดยไม่หยุดชะงัก
การสร้างเครื่องเร่งอนุภาคที่เสถียรระดับที่ฝากชีวิตโรงงานไว้ได้นั้นยังคงเป็นความท้าทายที่ยิ่งใหญ่
และเวลาคือตัวแปรที่โหดร้ายที่สุดในโลกแห่งเทคโนโลยี
โลกแห่ง AI กำลังเรียกร้องหาชิปประมวลผลเพิ่มขึ้นในระดับวินาทีต่อวินาที…
อุตสาหกรรมต้องการกำลังการผลิตเดี๋ยวนี้ไม่ใช่อีกสิบปีข้างหน้า
ประวัติศาสตร์สอนเราเสมอว่าเทคโนโลยีที่ดีกว่าในทางทฤษฎีมักพ่ายแพ้ให้กับเทคโนโลยีที่เข้าสู่ตลาดได้ทันเวลา
เรื่องราวนี้จึงเต็มไปด้วยความน่าสนใจ เพราะอุตสาหกรรมกำลังทุ่มเงินสร้างโรงงานแห่งอนาคต
ทั้งที่ยังไม่แน่ใจเต็มร้อยว่าเทคโนโลยีผลิตแสงในทศวรรษหน้าจะมีหน้าตาเป็นอย่างไร
อนาคตของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์อาจไม่ได้ขึ้นอยู่กับว่าใครออกแบบทรานซิสเตอร์ได้เล็กที่สุด
แต่ขึ้นอยู่กับว่าใครจะสร้างแหล่งกำเนิดแสงที่บ้าคลั่งและใหญ่โตที่สุดได้ต่างหาก
เพื่อที่จะสร้างสิ่งที่ “เล็กที่สุด” เท่าที่มนุษย์เคยสร้างมา
ซึ่งท้ายที่สุด เราอาจจะต้องสร้างโรงงานที่ “ใหญ่ที่สุด” ในประวัติศาสตร์ของมนุษยชาติเพื่อแลกมันมา…
References : [asml, nature, ieee, reuters, bloomberg]
◤━━━━━━━━━━━━━━━◥
หากคุณชอบคอนเทนต์นี้อย่าลืม 'กดไลก์'
หากคอนเทนต์นี้โดนใจอย่าลืม 'กดแชร์'
คิดเห็นอย่างไรคอมเม้นต์กันได้เลยครับผม
◣━━━━━━━━━━━━━━━◢
The original article appeared here https://www.tharadhol.com/from-asml-to-xfel/
ติดตามสาระดี ๆ อัพเดททุกวันผ่าน Line OA ด.ดล Blog
คลิกเลย --> https://lin.ee/aMEkyNA
——————————————––
ติดตาม ด.ดล Blog เพิ่มเติมได้ที่
=========================
โฆษณา